WEKO3
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A Review and Prospect of Area Scaling Trend for SRAM CircuitDesign Solution in Deeper Nano-meter Era
http://hdl.handle.net/11478/974
http://hdl.handle.net/11478/97457ca2d62-2cc1-44df-96ca-8a50f3440aff
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
11478-974_p1山内 寛行.pdf (1.7 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
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| 公開日 | 2018-06-22 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | A Review and Prospect of Area Scaling Trend for SRAM CircuitDesign Solution in Deeper Nano-meter Era | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | SRAM scaling | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | SRAM margin assist | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | V[T] variation | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | EOT scaling | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | multiple voltage | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | SRAM scaling | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | SRAM margin assist | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | V[T] variation | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | EOT scaling | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | multiple voltage | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| 著者 |
YAMAUCHI, Hiroyuki
× YAMAUCHI, Hiroyuki |
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| 著者(ヨミ) | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 2770 | |||||
| 姓名 | ヤマウチ, ヒロユキ | |||||
| 別言語の著者 | ||||||
| 識別子Scheme | WEKO | |||||
| 識別子 | 2110 | |||||
| 姓名 | 山内, 寛行 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | We compare the area scaling trend of various SRAM margin-assist solutions for V[T] variability issues, which are based on efforts by not only the cell topology changes from 6T to 8T and 10T but also incorporating multiple voltages supply and timing sequence controls of read and write. The various solutions are analyzed in light of an impact of ever increasing V[T] variation (σ[VT]) on the required area overhead for each design solution, resulting in slowdown in the scaling pace. If σ[VT] suppressed to ＜70mV even at 15nm node, it has been found that 6T will be allowed long reign even in 15nm if σ[VT] can be suppressed to ＜70mV thanks to EOT scaling for LSTP process,otherwise 10T and 8T with read modify write will be needed. | |||||
| 書誌情報 |
福岡工業大学研究論集 巻 42, 号 1, p. 1-5, 発行日 2009-09-28 |
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| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 02876620 | |||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AN10036974 | |||||
| フォーマット | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | application/pdf | |||||
| 形態 | ||||||
| 値 | 1736714 bytes | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 福岡工業大学 | |||||
| 出版者（ヨミ） | ||||||
| 値 | フクオカ コウギョウ ダイガク | |||||
| 別言語の出版者 | ||||||
| 値 | Fukuoka Institute of Technology | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 論文(Article) | |||||
| 資源タイプ・ローカル | ||||||
| 値 | 紀要論文 | |||||
| 資源タイプ・NII | ||||||
| 値 | Departmental Bulletin Paper | |||||
| 資源タイプ・DCMI | ||||||
| 値 | text | |||||
| 資源タイプ・ローカル表示コード | ||||||
| 値 | 02 | |||||
