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  1. 紀要・部局刊行物
  2. 福岡工業大学研究論集
  3. 研究論集 第39巻1号(通巻57号)

Distribution of Electrically Active Nickel Atoms in Dislocation-Free N-and P-Type Silicon Crystals Measured by Deep Level Transient Spectroscopy

http://hdl.handle.net/11478/835
http://hdl.handle.net/11478/835
06ff7b45-ace5-4d6f-82f0-12cab466e507
名前 / ファイル ライセンス アクション
11478-835_13p田中秀司.pdf 11478-835_13p田中秀司.pdf (433.2 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2018-10-12
タイトル
タイトル Distribution of Electrically Active Nickel Atoms in Dislocation-Free N-and P-Type Silicon Crystals Measured by Deep Level Transient Spectroscopy
言語
言語 eng
キーワード
主題Scheme Other
主題 nickel distrihution
キーワード
主題Scheme Other
主題 dislocation-free silicon
キーワード
主題Scheme Other
主題 n-silicon
キーワード
主題Scheme Other
主題 p-silicon
キーワード
主題Scheme Other
主題 U-shaped profile
キーワード
主題Scheme Other
主題 DLTS
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 nickel distrihution
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 dislocation-free silicon
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 n-silicon
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 p-silicon
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 U-shaped profile
キーワード
言語 en
主題Scheme Other
主題 DLTS
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 田中, 秀司

× 田中, 秀司

WEKO 1766

田中, 秀司

Search repository
北川, 興

× 北川, 興

WEKO 1767

北川, 興

Search repository
著者(ヨミ)
識別子Scheme WEKO
識別子 1768
姓名 タナカ, シュウジ
著者(ヨミ)
識別子Scheme WEKO
識別子 1769
姓名 キタガワ, ハジメ
別言語の著者
識別子Scheme WEKO
識別子 1770
姓名 Tanaka, Shuji
別言語の著者
識別子Scheme WEKO
識別子 1771
姓名 Kitagawa, Hajime
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 Distribution profiles of electrically active nickel atoms inn-and p-typc dislocation-free silicon arc measured by means of the deep level transient spectroscopy (DLTS) on Schottky barrier diodes (SBD) fabricated on nickel-doped silicon. The processes of lapping-off the surface. etching, SBD formation and DLTS measurement were repeated on one sample until the total removed-off thickness exceeded the half of the initial sample thickness. The distribution profiles were evaluated by measuring the con­centrations of the clcctron trap (nickel acceptor level) in n-type and the hole trap (nickel donor level) in p-type silicon as functions of x/, where x is the distance from the surface and I is the sample thick­ness.
The distributions manifest U-shaped diffusion profiles irrespective of one-sided or double-sided diffusion conditions. The experimental results have shown. in the bulk, the flat profiles peculiar to those according to the dissociative mechardsm of diffusion in which the sinks and sourees of lattice va­cancics are present in the bulk.
書誌情報 福岡工業大学研究論集

巻 39, 号 1, p. 13-15, 発行日 2006-09-30
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 02876620
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN10036974
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
形態
値 433191 bytes
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
日本十進分類法
主題Scheme NDC
主題 549.8
出版者
出版者 福岡工業大学
出版者(ヨミ)
値 フクオカ コウギョウ ダイガク
別言語の出版者
値 Fukuoka Institute of Technology
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 論文(Article)
資源タイプ・ローカル
値 紀要論文
資源タイプ・NII
値 Departmental Bulletin Paper
資源タイプ・DCMI
値 text
資源タイプ・ローカル表示コード
値 02
コメント
値 著者所属 : 田中 秀司 福岡工業大学電子情報工学科(Department of Information Electronics, Faculty of Engineering, Fukuoka Institute of Technology)
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Ver.1 2023-05-15 12:40:27.080054
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